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从原理到结构,X荧光氧化硅分析仪全解读!

发布日期: 2020-11-13
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    X荧光氧化硅分析仪就是被分析样品在X射线照射下发出的X射线,它包含了被分析样品化学组成的信息,通过对上述X射线荧光的分析确定被测样品中各组份含量的仪器就是X射线荧光分析仪。

    X荧光氧化硅分析仪工作原理:

    荧光,顾名思义就是在光的照射下发出的光。

    从原子物理学的知识我们知道,对每一种化学元素的原子来说,都有其特定的能级结构,其核外电子都以各自特有的能量在各自的固定轨道上运行,内层电子在足够能量的X射线照射下脱离原子核的束缚,成为自由电子,我们说原子被激发了,处于激发态,这时,其他的外层电子便会填补这一空位,也就是所谓跃迁,同时以发出X射线的形式放出能量。由于每一种元素的原子能级结构都是特定的,它被激发后跃迁时放出的X射线的能量也是特定的,称之为特征X射线。通过测定特征X射线的能量,便可以确定相应元素的存在,而特征X射线的强弱(或者说X射线光子的多少)则代表该元素的含量。

    量子力学知识告诉我们,X射线具有波粒二象性,既可以看作粒子,也可以看作电磁波。看作粒子时的能量和看作电磁波时的波长有着一一对应关系。这就是著名的普朗克公式:E=hc/λ。显然,无论是测定能量,还是波长,都可以实现对相应元素的分析,其效果是完全一样的

    X荧光氧化硅分析仪仪器结构:

    1.多功能置样装置

    A.样品种类:固体﹑液体﹑粉末﹑镀层。

    B.样品托盘:可自动旋转的测量装置。

    C.样品室的环境:可选择空气﹑真空﹑氦气。由软件自动控制,无需人工操作。

    2.激发系统

    激发系统采用独特的倒置直角光学结构设计。以50KV的低功率X射线发生器作为激发源,从X射线管产生的初级X射线通过滤光片后直接激发样品,通过选择激发条件更能获得分析结果。由高电压发生器,X射线发生器及数码控制显示系统等电子线路部分构成。

    A.高电压发生器:电压与电流采用软件自动数码控制及显示。

    X射线稳定度:0.2%/8小时。

    电压范围:0V至50kV连续可调。

    电流范围:0mA至1mA连续可调。

    B.X射线发生器:采用韧致辐射型﹑低功率﹑自然冷却﹑高寿命的X光管,并根据实际应用需要选择靶材。对轻元素Na、Mg、Al、Si、S等具有高激发效率。

    3.X射线探测系统

    X射线探测系统,电制冷高分辨率高计数率探测器:薄窗对Fe5.9keV的X射线计数率为1000CPS时的分辨率为140eV。对轻元素Na、Mg、Al、Si、S等具有高灵敏度与分辨率。

    4.高级原装能谱仪电子学系统

    原装进口的放大器等信号处理器:适应高分辨率﹑高计数率,具有水平;自动调整放大倍数,2048道地址;

    5.微机分析系统

    A.高级商用机;

    B.19寸高分辨率彩色液晶显示器;

    C.HP激光打印机。

    6.软件

    A.操作:WINDOSXP操作系统软件,,使用方便。

    B.功能:能谱显示,分析元素设置,能量刻度,X光管高压、电流自动控制,样品盘自动旋转控制,自动真空控制,与其它计算机通讯,标准数据库结果存放;

    C.分析方法:线性拟合,二次曲线,强度校正,含量校正,基本参数方法。

    D.仪器的漂移自动修正:保证仪器的分析结果长期稳定。

    7.电源

    220V50HZ交流电

    8.仪器的安全性:本仪器的放射性安全指标完全符合国家标准,在仪器外壳5cm处的剂量小于5μSv/h。

    9.本仪器对水泥生料含量的重复测量精度

    S(Al)<0.04S(Ca)<0.06

    S(Si)<0.05S(Fe)<0.03
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